旋转硅铝金靶 Rotatable SiAl Alloy target
产品用途：用于制作SiO2膜、Si3N4膜，主要用于光学玻璃AR膜系，Low-E玻璃膜系,半导体电子, TFT, 平面显示. 触摸屏玻璃。
产品参数:
密度: >2.2g/cm3（>94%）
纯度: > 99.9%
总杂质含量≤ 1000ppm
旋转硅铝金靶 Rotatable SiAl Alloy target
产品用途：用于制作SiO2膜、Si3N4膜，主要用于光学玻璃AR膜系，Low-E玻璃膜系,半导体电子, TFT, 平面显示. 触摸屏玻璃。
产品参数:
密度: >2.2g/cm3（>94%）
纯度: > 99.9%
总杂质含量≤ 1000ppm