溅射镀膜又分为很多种，金属真空镀膜，总体看，与蒸发镀膜的不同点在于溅射速率将成为主要参数之一。
溅射镀膜中的激光溅射镀膜pld，组分均匀性容易保持，而原子尺度的厚度均匀性相对较差(因为是脉冲溅射)，晶向(外沿)生长的控制也比较一般。以pld
为例，因素主要有：靶材与基片的晶格匹配程度、镀膜氛围(低压气体氛围)、基片温度、激光器功率、脉冲频率、溅射时间。对于不同的溅射材料和基片，zui佳参数需要实验确定，是各不相同的，镀膜设备的好坏主要在于能否精i确控温，能否保证好的真空度，金属真空镀膜加工厂，能否保证好的真空腔清洁度。MBE分子束外沿镀膜技术，金属真空镀膜厂，已经
比较好的解决了如上所属的问题，但是基本用于实验研究，工业生产上比较常用的一体式镀膜机主要以离子蒸发镀膜和磁控溅射镀膜为主。
PVD真空镀膜前后有什么不一样的地方：
1.产品经过镀膜后，会在产品表面形成一种保护膜，可以有效抵抗腐蚀，更加耐磨，提升产品质量。
2.镀膜能够改变产品外观，可根据不同产品客户群体电镀不同颜色外观，满足消费需求，金属真空镀膜厂家，如五金真空镀膜18k金。
3.电镀的膜层越厚，保色时间越长，像千屹的真空厚金电镀，保色时间可达到1-3年。
4.电镀后因为质量以及使用寿命的延长，能为产品带来附加价值提升，有利于提高产品经济收益。
对于PVD真空镀膜，不同的产品应该选择合适的电镀工艺，磁控溅射镀（主要金属产品），蒸发镀（主要塑胶产品），光学离子镀（主要璃玻产品），颜色同样有多种选择。
厚度均匀性主要取决于：
1、基片材料与靶材的晶格匹配程度
2、基片表面温度
3、蒸发功率，速率
4、真空度
5、镀膜时间，厚度大小。
组分均匀性：
蒸发镀膜组分均匀性不是很容易保证，具体可以调控的因素同上，但是由于原理所限，对于非单一组分镀膜，蒸发镀膜的组分均匀性不好。
晶向均匀性：
1、晶格匹配度
2、基片温度
3、蒸发速率
对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且终沉积在基片表面，经历成膜过程，终形成薄膜。
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