清洗对象：本设备主要适用于半导体、太阳能光伏行业的各种大小块硅料的高洁净清洗；
清洗介质：纯水、HNO3、HF等；
传输方式：绞龙输送；
清洗工艺：
振动上料→酸腐槽→中间快速输送绞龙→喷淋水洗槽→喷淋超声水洗槽→喷淋超声水洗槽→喷淋超声波清洗槽→风刀切液→下料；
设备特点：
1、绞龙转速可调，有效保证了各槽清洗时间；
2、上液方式为自动上液，实现了真正意义上的自动化；
3、酸腐槽特殊结构设计，不仅保证了酸液恒温，还可以有效避免酸液的外流；
4、酸腐槽和下一道工序之间设有保护装置，避免硅料脱离酸液后的产品氧化；
5、各清洗槽配透明上盖，便于用户实时观察槽内状况；
6、所有的传输动作均靠电气控制系统自动完成；
7、PLC触摸屏等电气控制系统具有过载保护、漏电保护、故障自动报警、联动与互锁等功能；