氮化铝陶瓷基片(AlN)
AlN陶瓷基片是新一代高性能陶瓷基片，具有很高的热导率（理论值为319W/m.K，商品化的AlN基片热导率大于140W/m.k）、较低的介电常数（8.8）和介电损耗（～4×104）、以及和硅相配比的热膨胀系数（4.4×10－4/℃）等优点，化学组成 AI 65.81%，N 34.19%，比重3.261g/cm3，白色或灰白色，单晶无色透明，常压下的升华分解温度为2450℃。
氮化铝陶瓷基片，热导率高，电性能好、热膨胀系数与Si片接近,强度高，耐高温，耐化学腐蚀，电阻率高，介电损耗小，无毒性，是取代BeO陶瓷的理想材料，是理想的大规模集成电路散热基板和封装材料。
主要应用于：高密度混合电路、微波功率器件、电力电子器件、光电子部件、半导体致冷等产品中做高性能基片材料和封装材料，广泛应用于通讯器件、 高亮度LED、电力电子器件等行业。
产品特点
高导热性
热膨胀系数跟Si接近
优良的绝缘性能
较低介电常数和介质损耗
AlN(氮化铝)陶瓷基片主要性能指标 | |
性能内容 | 性能指标 |
体积密度 (g/cm3) | 3.335 |
抗热震性 | 无裂纹、炸裂 |
热导率 (30℃, W/m.k) | ≥170 |
膨胀系数 (/℃, 5℃/min, 20-300℃) | 2.805×10-6 |
抗折强度 (MPa) | 382.7 |
体积电阻率(Ω.cm) | 1.4×1014 |
介电常数(1MHz) | 8.56 |
化学稳定性 (mg/cm2) | 0.97 |
击穿强度 (KV/mm) | 18.45 |
表面粗糙度(μm) | 0.3~0.5 |
翘曲度(length‰) | ≤2‰ |
外观/颜色 | 致密、细晶/ 暗灰色 |