钨具有高熔点，且被高速电子束照射时可以产生X射线，因此常被用作各种X射线管的X射线发生源，而钨铼靶材兼具高强度、韧性、耐热性以及高精度等优点，同时支持高功率电子束，常被用于医用X射线管。同时钨铼靶还广泛应用于磁控溅射中。
我司采用固液法混料提高铼的均匀性，同时通过多次锻打和退火提高密度和改善组织，提高阳极靶的使用性能和寿命。
工艺流程：配粉→压制→烧结→锻打→退火→机加工→动平衡→真空除气→包装
钨铼靶 X射线阳极靶 磁控溅射靶材
X射线管旋转靶材性能表 | |||
TZM-钨 | TZM-铼钨 | TZM-铼钨黑化靶 | |
直径 | Φ52.5-102mm | Φ52.5-102mm | |
厚度 | 7-21mm | 7-21mm | |
靶角 | 根据需求6°-18° | 根据需求6°-18° | |
铼含量 | —— | 1%，3%，5% | 1%，3%，5% |
跳动 | <0.02mm | <0.02mm | |
动平衡 | <1g·cm | <1g·cm | |
钨铼靶 X射线阳极靶 磁控溅射靶材
