NSC-4000Sputter磁控溅射镀膜机：先进的全自动溅射系统带有水冷或者加热（可加热至700度）功能；8“旋转样平台,可支持到3个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵，极限真空可达10-7 Torr，15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过使用RF射频开关，RF射频或DC直流电源可以切换到多磁控管模式。通过调整磁控管与基片之间的距离，可以获得想要的均匀度和沉积速度。
NSC-4000Sputter磁控溅射镀膜机产品特点：
· 不锈钢，铝质腔体或钟罩式耐热玻璃腔
· 70，250或500 l/s的涡轮分子泵，串接机械泵或干泵
· 13.56MHz，300-600W RF射频电源以及1KW DC直流电源
· 晶振夹具具有的<1 ?的厚度分辨率
· 带观察视窗的腔门易于上下载片
· 基于LabView软件的PC计算机全自动控制
· 带密码保护功能的多级访问控制
· 完全的安全联锁
选配项：
· 向上、向下或侧面溅射
· RF、DC以及脉冲DC溅射
· 共溅射、反应溅射
· 组合溅射
· RF或DC偏压（1000V）
· 样品台可加热到700°C
· 膜厚监测仪
· 基片的RF射频等离子清洗
· 预真空锁以及自动晶圆片上/下载片
应用：
· 晶圆片、陶瓷片、玻璃白片以及磁头等的金属以及介质涂覆
· 光学以及ITO涂覆
· 带高温样品台和脉冲DC电源的硬涂覆
· 带RF射频等离子放电的反应溅射
型号：
· NSC-4000：基于PC计算机全自动控制的独立式系统
· NSC-3500：基于PC计算机全自动控制的紧凑型独立式系统
· NSC-3000：PC计算机全自动控制的台式系统
· NSC-1000：半自动控制的台式系统
(以下为双系统型号)
· NSR-4000：溅射/RIE系统
· NSP-4000：溅射/PECVD系统
· NST-4000：溅射/热蒸发系统
我公司主要经营各类真空镀膜微纳加工设备，包括薄膜沉积、刻蚀及清洗去胶设备等（ALD，PECVD，RIE，磁控溅射，热蒸镀，电子束，离子束，热真空试验，晶圆清洗机，PA-MOCVD）