硅片的化学机械抛光过程是以化学反应为主的机械抛光过程，要获得质量好的抛光片，必须使抛光过程中的化学腐蚀作用与机械磨削作用达到-种平衡。
如果化学腐蚀作用大于机械抛光作用，抛光白革批发商，则抛光片表面产生腐蚀坑、桔皮状波纹。如果机械磨削作用大于化学腐蚀作用，深圳抛光白革，则表面产生高损伤层。
制备高浓度的氧化抛光液想要优异的抛光效果，必须要氧化粉在抛光液体系中，具备非常好的悬浮性.分散性，否则如果分散性不好，容易导致有大
颗粒，或者悬浮性不好，都会影响抛光的效果，严重的话会损坏机器，因此做好氧化抛光液粉体的悬浮性和分散性需要加入特定的分散剂或者悬浮剂来
解决这个难题。
磨料在粒径大小可影响到磨粒的压强及其切入工件的深度。一般来说 ，在抛光过程中， 粒径大的磨粒压强大，机械去除作用较强，材料去除率较高。所以
粒径较大的磨粒容易在抛光表面产生较大的残留划痕甚至残留裂纹;而粒径较小的磨粒可获得较好的抛光表面质量。另外在磨粒直径相同的情况下，球形
磨粒比表面不平的磨粒去除效率更高。
2 ph值调节剂
抛光液中常常添加一些化学试剂用于调节抛光液的ph值。以保证抛光过程化学反应的进行。化学机械抛光抛光液一 般分为酸性和碱性两大类。
3 ，粉体悬浮性。具有悬浮性的粉体是使用抛光粉的重要体现，一般好的粉要 求选择有较好的悬浮性，因为粉体的悬浮性直接影响到了粉体的
粒度以及粉体的形状;
4 ，粉体硬度。具有硬度较高的粉体就具有较快的切削效果，抛光白革的价格，或者可能添加一些助磨液剂量也能帮助提高粉体的硬度 ;
5 ，粉体的粒度大小。适当控制好粉体的粒度大小，是决定抛光速度以及精度的重要条件。均匀的粒度决定了抛光粉的整体表面水平以及抛光
效果。
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