蚀刻曝光就是通过曝光制版、显影后，将要蚀刻区域的保护膜去除，在蚀刻时接触化学溶液，达到溶解腐蚀的作用，形成凹凸或者镂空成型的效果。
显影是在硅片表面光刻胶中产生图形的关键步骤。光刻胶上的可溶解区域被化学显影剂溶解，凹凸面曝光显影加工，将可见的岛或者窗口图形留在硅片表面。常见的显影方法是旋转、喷雾、浸润，黄江凹凸面曝光显影，然后显影。硅片用去离子水冲洗后甩干。
湿式精密五金蚀刻进程可分为三个过程：1) 化学精密五金蚀刻液分散至待精密五金蚀刻资料之外表;2) 精密五金蚀刻液与待精密五金蚀刻资料发作化学反响; 3) 反响后之产品从精密五金蚀刻资料之外表分散至溶液中，并随溶液排出。除了溶液的选用外，挑选适用的屏蔽物质亦是十分重要的，它必须与待精密五金蚀刻资料外表有很好的附着性、并能接受精密五金蚀刻溶液的腐蚀且安稳而不蜕变。
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