公司产品可以应用于电子束蒸发，热蒸发，磁控溅射等设备中，用来制备太阳能电池，光电探测器，LED，激光器，场效应晶体管等各种器件电极及各种薄膜材料图形设计。我们已与北京大学，清华大学，中科院声学研究所，武汉大学，华中科技大学，中科院昆明植物研究所，上海航空航天大学，山东大学，同济大学，吉林大学，华南理工，中山大学，等国内众多的高校和科研院所以及高技术企业形成了合作关系，积累了丰富的设计和制备经验，具备诸多优势。
华诺激光的掩膜版制备工艺主要激光加工的方法，这种方法可以根据客户要求灵活设计各种图案，且制备出来的图案尺寸标准。我们的图案尺寸精度可以达到0.02mm以上，边缘锐利无毛刺，开孔直线度好，真圆度好。