半导体XRD测试——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一，主要聚焦半导体产业发展的应用技术研究，兼顾重大技术应用的基础研究，从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究，以及行业应用技术开发。
XRD是非常常用的表征手段，作为结构研究的一种重要方法，XRD在催化材料和其他材料的研究中都具有非常重要的应用。本次分享我们从实用开始，从它的用途，甘肃锂电XRD检测，具体原理以及实际操作，到原理的分析。
XRD研究的是材料的体相还是表面相？
XRD采用单色X射线为衍射源，一般可以穿透固体，从而验证其内部结构，锂电XRD检测机构，因此XRD给出的是材料的体相结构信息。
XRD多以定性物相分析为主，但也可以进行定量分析。通过待测样品的X 射线衍射谱图与标准物质的X 射线衍射谱图进行对比，锂电XRD检测分析，可以定性分析样品的物相组成；通过对样品衍射强度数据的分析计算，可以完成样品物相组成的定量分析。
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上述两种方法很简便，常用，但仍很难避免在样品平面中晶粒会有某种程度的择优取向。
制备几乎无择优取向样品试片的专门方法：
喷雾法。把粉末筛到一只玻璃烧杯里，待杯底盖满一薄层粉末后，把塑料胶喷成雾珠落在粉末上，这样，塑料雾珠便会把粉末颗粒敛集成微细的团粒，待干燥后，把这些细团粒自烧杯扫出，分离出细于115目的团粒用于制作试片，试片的制作类似上述的涂片法，锂电XRD检测测试，把制得的细团粒撒在一张涂有胶粘剂的载片上，待胶干后，倾去多余的颗粒。用喷雾法制得的粉末细团粒也可以用常规的压片法制成试片。或者直接把样品粉末喷落在倾斜放置的涂了胶粘剂的载片上，得到的试片也能大大地克服择优取向，粉末取向的无序度要比常规的涂片法好得多。 塑合法。把样品粉末和可溶性硬塑料混合，用适当的溶剂溶解后，使其干固，然后再磨碎成粉。所得粉末可按常规的压片法或涂片法制成试片。
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XRD主要测什么?
1、晶体结构分析;
2、物相定性分析;
3、物相定量分析;
4、晶粒大小分析;
5、结晶度分析;
6、宏观应力和微观应力分析;
7、择优取向分析
XRD图谱怎么分析?
1、在衍射仪获得的XRD图谱上，如果样品是较好的"晶态"物质，图谱的特征是有若千或许多个一般是彼此独立的很窄的“尖峰”。
2、如果这些“峰”明显地变宽，则可以判定样品中的晶体的颗粒尺寸将小于300nm，可以称之为"微晶"。
3、Scherer(118)揭示了衍射峰的增宽是对应晶面方向上的原子厚度(县数|不足以在偏离Bragg条件下相干减弱(destructivelyinterference)衍射峰。当衍射峰宽度增加到接近其高度时(或高度下降到接近其宽度时)，可认为样品是非晶。
4、同一物质的话，峰窄说明晶粒比较大，和结晶度无关。同一台仪器测试且测试条件相同的情况下，峰高的比较多才能说明结晶情况较好
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