布置工艺的流程尽可能短，减少交叉往复，、物流走向合理。
要配备人员净化室、物料净化室，除配备产品工序要求的用室外，还应配备洁具室、洗衣间、暂存室等，每间用室相互独立，净化车间装修工程，净化工程的面积应在保证基本要求前提下，与生产规模相适应。
净化工程在设计时，工程的墙、顶板材一般多采用50mm厚的夹芯彩钢板，其特点为美观、刚性强。
圆弧墙角、门、窗框等一般采用氧化铝型材。
设计净化系统组织的原则是相邻二级过滤器的效率不能太接近，也不能相差太大。
一般采用初效、中效、亚(或)三级过滤器。
也可分四级，增加一级过滤器。
直径100um的硅片，温度上升1度，就引起了0。
24um线性膨胀，所以必须有±0。
1度的恒温，同时要求湿度值一般较低，因为人出汗以后，对产品将有污染，特别是怕钠的半导体车间，这种车间不宜超过25度。
净化工程在设计时，无论是新建还是重新改造的净化车间，都一定依照国家相关标准、规范进行。
1000级一般只对尘埃浓度做要求，用于光学器件，仪器等高精仪器等10000级，用于液压设备的生产，和一些食品饮料的生产。
100000级，这个级别比较的低，对净化度要求不是很高，主要在印刷厂，包装厂等。
1000级一般只对尘埃浓度做要求，用于光学器件，万级净化车间装修，仪器等高精仪器等10000级，用于液压设备的生产，和一些食品饮料的生产。
100000级，马鞍山净化车间，这个级别比较的低，对净化度要求不是很高，主要在印刷厂，包装厂等。
相对湿度越高，粘附的难去掉，万级净化车间，但当相对湿度低于30%时，又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面，同时大量半导体器件容易发生击穿。
对于硅片生产温度范围为35—45%。
布置工艺的流程尽可能短，减少交叉往复，、物流走向合理。
要配备人员净化室、物料净化室，除配备产品工序要求的用室外，还应配备洁具室、洗衣间、暂存室等，每间用室相互独立，净化工程的面积应在保证基本要求前提下，与生产规模相适应。
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