我们通过对自显机显影液性能的系统观测，并分期进行不同且条件补偿，根据补偿后特性曲线试叼于析和选择，提出了较理想的条件补偿值。
此法可对不同条件时，自显机套药性能衰减的条件补偿提出理论依据，使线照片的影像质盈保持恒定。
自显机套药的使用时间又受胶片冲洗量的制约，使用时间越长，弧度面曝光显影，胶片的灰雾度越大，反差越小，药液氧化和衰减越明显。
显影检验良品率和重新工艺处理率随掩膜水平而变。
总体上，在掩膜次序中有较宽的特征图形尺寸、较平的表面和较低的密度，弧度面曝光显影设计，所有这些会使掩膜良品率更高。
在晶圆到了关键的接触和连线步骤时，重新工艺处理率会有上升趋势。
总体上有四类晶圆上的问题适用于显影检验和终检验，弧度面曝光显影公司，如在图案尺寸（关键尺寸测量）上会有偏差；有定位不准的图案；有表面问题如光刻胶的污染、空洞或划伤及污点和其它的表面不规则。
如果不正确掌握会对线胶片成像质量带来很大影响。
为解决这一问题我们采用增加曝光量的方法来进行补偿，以使线胶片的成像质量保持在相对恒定水平。
曝光显影是蚀刻工艺中非常重要的部分，它是图案准确度的决定性因素，因此曝光显影管控非常重要，之前鑫海森有编辑过“曝光显影在蚀刻加工中的作用”； 以上结束后，弧度面曝光显影厂，进行检测，合格品就可以进入蚀刻加工了。
蚀刻加工的产品大都为精密零件，因此每一步的工艺设置与检测都需要严格控制，才能保证蚀刻完成后的加工质量。
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