对于采用低功率曝光机，由于光能量低，曝光显影工艺厂商，造成曝光时间长，则光的折射、衍射等加重，这对于制造精细节距或高密度互连的导通孔是不利的。
一方面可除去水份和溶剂，另一方面，主要是使固化进一步完成和深化。
曝光定位 ①目视定位 适用于重氮照相底法。
利用稀碱溶液与光致抗蚀剂中未曝光部分的活性基团(羧基)反应，生成可溶性的物质溶于水，曝光显影工艺生产厂家，而曝光部分的干膜不发生溶解。
然后贴上胶带贴牢，即可进行曝光。
曝光后，聚合反应还要持续一段时间，南城曝光显影工艺，为保证工艺的稳定性，曝光后不要立即揭去聚酯膜，利用稀碱溶液与光致抗蚀剂中未曝光部分的活性基团(羧基)反应，生成可溶性的物质溶于水，曝光显影工艺定制，而曝光部分的干膜不发生溶解。
显影是在正性光刻胶的曝光区和负性光刻胶的非曝光区的光刻胶在显影液中溶解，在光刻胶上形成三维图形的一种光刻技术。
显影过程如图1 [1] 所示，非曝光区的光刻胶由于在曝光时并未发生化学反应，在显影时也就不会存在这样的酸碱中和，因此非曝光区的光刻胶被保留下来。
在显影时曝光区和非曝光区的光刻胶都有不同程度的溶解。
曝光区与非曝光区的光刻胶溶解速度反差越大，显影后得到的图形对比度越高。
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