中系稀土抛光粉，主要适用于光学仪器的中等精度中小球面镜头的高速抛光。该抛光粉与高粉比较，可使抛光粉的液体浓度降低11%，抛光速率提高35%，制品的光洁度可提高一级，抛光粉的使用寿命可提高30%.目前国内使用这种抛光粉的用量尚少，有待于今后继续开发新用途。
低系稀土抛光粉，如771型适用于光学眼镜片及金属制品的高速抛光；797型和C-1型适用于电视机显象管、眼镜片和平板玻璃等的抛光；H-500型和877型适用于电视机显象管的抛光。此外，佛山稀土抛光粉，其它抛光粉用于对光学仪器，摄像机和照像机镜头等的抛光，这类抛光粉国内用量，约占国内总用量85%以上。
主要指标：产品中w（REO）=99%，w（CeO2）=99%;稀土回收率约95%;平均粒经1μm~6μm（或粒度为200目~300目），晶形完好。该产品适用于高速抛光。这种高抛光粉早代替了古典抛光的氧化铁粉（）。
1.4.2中系稀土抛光粉的制备
用混合稀土氢氧化物（w（REO）=65%，w（CeO2）≥48%）为原料，以化学方法预处理得稀土盐溶液，加入中间体（沉淀剂）使转化成w（CeO2）=80%~85%的中级系稀土抛光粉产品。其主要工艺过程为：
原料→氧化→优溶→过滤→酸溶→沉淀→洗涤过滤→高温煅烧→细磨筛分→中级系稀土抛光粉产品。主要设备：氧化槽，稀土抛光粉价格，优溶槽，酸溶槽，沉淀槽，过滤机，煅烧炉，稀土抛光粉生产，细磨筛分机及包装机。
以上原料中除种外，稀土抛光粉公司，第2，3，4种均含轻稀土（w（REO）≈98%），且以CeO2为主，w（CeO2）为48%~50%.我国具有丰富的资源，据测算，其工业储量约为1800万吨（以CeO2计），这为今后我国持续发展稀土抛光粉奠定了坚实的基础，也是我国独有的一大优势，并可促进我国稀土工业继续高速发展。
1.4主要生产工艺及设备
1.4.1高系稀土抛光粉的生产
以稀土混合物分离后的氧化为原料，以物理化学方法加工成硬度大，粒度均匀、细小，呈面心立方晶体的粉末产品。其主要工艺过程为：原料→高温→煅烧→水淬→水力分级→过滤→烘干→系稀土抛光粉产品。
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