XRD薄膜检测测试 安徽XRD薄膜检测 半导体XRD物相分析

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XRD薄膜检测半导体XRD检测——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一,主要聚焦半导体产业发展的应用技术研究,兼顾重大技术应用的基础研究,从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究,以及行业应用技术开发。

x射线应力测定原理

平行相干的X射线射到金属结晶表面时,会发生衍射。

描述X射线衍射现象的布拉格公式为:

通常取衍射级数n为1。

因此,可通过测量衍射角的变化来确定晶格间距s的变化。

当测定图b所示构件上一点O在x方向的表面应力时,安徽XRD薄膜检测,须在与试件表面法线z成角度的方向上射入一束波长为λ的X射线。

在各向同性材料的均匀弹性变形条件下,有如下的关系:

式中E和v分别为材料的弹性模量和泊松比; 为ψ方向的应变;为法线取OP方向的特定晶格面的X射线衍射角;θ0为材料无应力状态时的衍射角。



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什么样的样品适合生长单晶?分子结构角度考虑:

刚性化合物比柔性的更容易,链超过4 个碳的一般难以培养单晶;

从晶体学家角度考虑,分子中好不含叔丁基,因为容易无序,XRD薄膜检测分析,影响单晶解析的质量,但是从化学角度考虑,叔丁基可增加溶解度,所以也经常使用。和根等也存在类似的问题;

更换取代基有时会有理想的效果。如 4-取代化合物比取代化合物往往容易长单晶。

外观角度判断培养前景:

旋蒸或简单重结晶所得样品,如果光泽很好 (不是贴在烧瓶内壁的一层薄膜刮下来之后产生的光泽),在显微镜下观察,如果是块状,有规则外形,则容易生长;

油状物很难长出单晶,经过进一步提纯后再去培养。




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制作试片的技巧

压片法:粉末均匀撒入样品池——用小刀剁实压紧——刮去多余凸出的粉末

涂片法:粉末撒在25mm*35mm*1mm的载玻片上——滴上足量的或酒精(假如试样在其中不溶解)——待/酒精挥发

两种制备几乎无择优取向试片的方法:(塑合法)(喷雾法)




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2022-11-25 02:51
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