XRD残余应力检测半导体XRD检测——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一，主要聚焦半导体产业发展的应用技术研究，兼顾重大技术应用的基础研究，从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究，以及行业应用技术开发。
单晶生长中的普遍性问题从溶液中生长晶体为常见；
从溶液中生长晶体一般都经历近饱和→饱和→过饱和→结晶的过程。我们出发点就是控制好这个过程；
晶体生长的难易程度首先取决于化合物的本性。各种技巧的掌握和运用可以显著提高获得单晶的几率；
晶体的生长和质量主要依赖于晶核形成和生长速率。晶核形成过快就会形成大量微晶，很难长大，并易出现晶体团聚。生长的速率太快则会导致晶体出现缺陷；
尝试、耐心和运气。
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5.精修的时候Size是怎么知道的？
答：通过单晶衍射仪，晶体在衍射环中的大小来预估的。
6.checkcif报告算是一个确认解析正确无误的可信依据吗？没有错误在里面就行吗？
答：对的，没有严重的A和B类错误，是可以发表的。
7.如果解出来的结构有disorder作图的时候就是那样全部保留着作图 ，还是删掉低占有率的，黑龙江XRD残余应力检测，然后再作图啊？还有这个diamond出的图感觉清晰度好像也不是那么清楚， 怎么把出图的清晰度调高一些啊？
答：结构中有无序disorder时，把占有率低的一半原子删掉，保留占有率高的一半。在Diamond软件里有个Picture，XRD残余应力检测报告，选Layout，里面有可以调图片大小和分辨率的。
8.合成出2到3mm大小的单晶，这个尺寸适合拿来单晶测试吗？
答：这个尺寸大了，理想尺寸是0.3-0.5mm。但是过大的尺寸，我们可以通过刀来进行切割后再测试。
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制作试片的技巧
压片法：粉末均匀撒入样品池——用小刀剁实压紧——刮去多余凸出的粉末
涂片法：粉末撒在25mm*35mm*1mm的载玻片上——滴上足量的或酒精（假如试样在其中不溶解）——待/酒精挥发
两种制备几乎无择优取向试片的方法：（塑合法）（喷雾法）
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