派瑞林原料cN是一种很好的介电材料，电浆辅助化学气相沉积设备，具有非常低的介质损耗、高绝缘强度以及不随频率变化的介电常数，是所有派瑞林原料c中穿透能力的一种，UH850气相沉积设备，并具有很好的自润滑性；
派瑞林原料cF具有高通透性和介电性能好的特点，在光电和等领域都有着广泛的应用；
派瑞林原料cHT具有更低的介电常数，透波性能好，热稳定性好。
派瑞林原料c可以涂敷到各种形状的表面，在盐雾、霉菌、潮湿、腐蚀性等恶劣环境中显示了很好的隔离防护功能。
而且生物相容性和生物稳定性也好，无毒无副产物，可以进行常规消毒。
随着生物电子科学的不断进步和发展，领域的很多方面都有使用派瑞林。
采用真空镀膜机物理气相镀(简称PVD，气相沉积设备，亦称真空镀)生产出外观和防腐性的五金配件。
采用真空镀膜机真空镀膜具有附着力强、镀层不易脱落；绕射性好，镀层厚度均匀；镀层致密，针孑L气泡少；镀前易处理，工艺简单；用料省，无公害等优点。
可在金属或非金属表面上镀制单质、合金或化合物。
曾广泛用于航空、宇航、电子和光学等工业部门中制备各种特殊性能的镀层。
无论监控仪精度怎样，气相沉积设备价格，它也只能控制真空室里单点位置的膜厚，一般来讲是工件架的中间位置。
如果真空电镀设备此位置的膜厚不是均匀的，那么远离中心位置的基片就无法得到均匀的厚度。
虽然屏蔽罩能消除表现为长期的不均匀性，但有些膜厚度的变化是由蒸发源的不稳定或膜材的不同表现而引起的，所以几乎是不可能消除的，但对真空室的结构和蒸发源的恰当选择可以使这些影响较小。
Parylene是美国Union Carbide Co.公司在六十年代推出的一种气相沉积高分子聚合物材料，由的真空气相沉积工艺制备，能涂敷到各种形状的表面，号称“无孔不入”，被业内称为好的防潮、防霉、防腐、防盐雾的特殊防护涂层。
Parylene可分为N型、C型、D型、F型、HT型等多种类型
现在，系统的平均尺寸规格已经在降低，而应用小规格设备进行光学镀膜的生产也已经转变成为纯技术问题。
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