物理气相沉积技术具有膜/基结合力好、薄膜均匀致密、薄膜厚度可控性好、应用的靶材广泛、溅射范围宽、可沉积厚膜、可制取成分稳定的合金膜和重复性好等优点。
同时，物理气相沉积技术由于其工艺处理温度可控制在500℃以下，因此可作为终的处理工艺用于高速钢和硬质合金类的薄膜刀具上。
由于采用物理气相沉积工艺可大幅度提高刀具的切削性能，人们在竞相开发、高可靠性设备的同时，也对其应用领域的扩展，尤其是在高速钢、硬质合金和陶瓷类刀具中的应用进行了更加深入的研究。
一、镀膜作业步骤:1.镀膜前洗净。
2.抽检镜片外观确认(裂边，伤痕，不洁)情况，全检镜片锁板情况(镜片倾斜）。
3.确认好准备镀膜的镜片(数量，机种，面别)并做好相应记录。
4.上伞，将镜片从包装盒内装到镀膜机台伞架上(主意带手套拿取镀膜板四周，勿碰到镜片。
5.区分需要镀膜镜片种类面别。
6.清洁坩埚电子周围用铜刷刷，吸，并添加药材。
7.确认晶振片，监控片是否OK在新的位置。
8.确认机台内无杂物，后关门排气加热。
9.镀膜选取相应的制程。
10.人员镀膜过程中进行监控。
11.下伞，等离子化学气相沉积公司，将镀膜后的镜片从伞架取下，等离子化学气相沉积技术哪家好，放入包装盒。
12.抽检，主要为膜点，雾状，等离子化学气相沉积加工，颜色异常，不洁。
13.光谱测量采用奥林巴斯反射测定仪和U4100分光光度计。
14.伞架每圈抽1PCS共5圈。
15.膜强度测试(采用3M胶带粘拉膜3次)。
16.光谱量测OK后可送出。
高真空离子镀适用范围比较广，如ABS料、ABS PC料、PC料的商品。
传统水电镀技术流程杂乱、环境污染大、设备成本高、对作业人员身体伤害大，电镀出来产品外观损坏大，产品稳定性差。
而高真空离子镀它是以真空技术为基础，利用物理或化学方法，并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术，为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。
简单地说，寮步等离子化学气相沉积，在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射，使其在被涂覆的物体（称基板、基片或基体）上凝固并沉积的方法，也就是我们俗称的真空镀膜。
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