| 规格 : | 50.8*3mm | 硅含量≥ : | 99.99% |
| 产地 : | 北京 | 牌号 : | 靶材 |
| 品名 : | 硅靶材 | 重量 : | 0.05kg/块 |
| 杂质含量 : | 0.01% |
科研实验专用 磁控溅射靶材 Si 硅金属靶材 电子束镀膜蒸发料
纯度 99.99%
产品介绍
硅也是极为常见的一种元素，它分为有无定形硅和晶体硅两种同素异形体。晶体硅为灰黑色，无定形硅为黑色，密度2.32-2.34克/立方厘米，熔点1410℃，沸点2355℃，晶体硅属于原子晶体。不溶于水、硝酸和盐酸，溶于氢氟酸和碱液。硬而有金属光泽。
产品参数
中文名 硅 原子量 28.0855 原子序数 14 颜色/外观 深灰色，带有蓝色色调，半金属色
熔点（°C） 1410 密度（g / cm3） 2.33 沸点 3173K（2900℃） 电导率 2.52×10⁻⁴ /（米欧姆）
产品用途
用于制合金、有机硅化合物和四氯化硅等，是一种极重要的半导体材料。1.用于制造合金、有机硅化合物和四氯化硅等, 是一种极重要的半导体材料。2.用作制造单晶硅的原料，还用于电子工业 3.是制造半导体硅器件的原料，用于制大功率整流器、大功率晶体管、二极管、开关器件等 4.用于制造半导体分立器件、功率器件、集成电路和外延衬底等。 5.主要用于制多晶硅、单晶硅、硅铝合金及硅钢合金等 6.用于制晶体管、整流器和太阳能电池，还用于制高硅铸铁、硅钢、各种有机硅化合物等 7.用作制备单晶硅的原料。 8.主要用作制多晶硅、单晶硅、硅铝合金及硅钢合金的化合物
陶瓷靶材采用常压烧结,气氛烧结,热等静压烧结等工艺,严格控制原料的纯度,成分及成型坯料额设计尺寸,坯料经过精密机械加工成靶材,可根据客户要求定制加工特殊掺杂比例靶材。
产品优势 靶材纯度高,致密度高,成分均匀
产品规格 图片靶材，矩形靶材，圆柱靶材，台阶片靶材，管型靶材，根据客户的图纸定制
产品用途 磁控溅射镀膜材料等
产品附件 正式报价单/购销合同/装箱单/材质分析检测单/正规发 票
产品包装 真空包装/真空中性包装/特殊包装外加固包装
适用仪器 各类型号磁控溅射设备
厂家优势
收货后7日内可协商退换货
靶材种类齐全