MgO靶材氧化镁靶材磁控溅射靶材

科研实验专用 MgO靶材氧化镁靶材磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料

纯度 99.99%

产品介绍

分轻质和重质两种。轻质体积蓬松，无嗅无味无毒。难溶于纯水及有机溶剂，在水中溶解度因二氧化碳的存在而增大。能溶于酸、铵盐溶液。遇空气中的二氧化碳生成碳酸镁复盐。重质体积紧密，与水易化合，露置空气中易吸收水分和二氧化碳。与氯化镁溶液混合易胶凝硬化。

产品用途

1、氧化镁晶体用于各种薄膜形成用衬底，PDP用保护膜材料，光学材料，高温材料，窗口材料 2、高纯氧化镁粉末用于PDP保护膜材料，PDP荧光粉浆料，高纯陶瓷材料，玻璃材料，涂层材料，电子绝缘材料，各种添加剂。

产品参数

中文名 氧化镁           化学式 MgO

分子量 40.3044          熔点 2,852℃ (5,166 °F; 3,125 K)

沸点 3600℃             水溶性 6.2 mg/L (0℃)

密度 3.58 g/cm3（25℃） 摩尔质量 40.3044 g/mol

陶瓷靶材采用常压烧结,气氛烧结,热等静压烧结等工艺,严格控制原料的纯度,成分及成型坯料额设计尺寸,坯料经过精密机械加工成靶材,可根据客户要求定制加工特殊掺杂比例靶材。

产品优势        靶材纯度高,致密度高,成分均匀

产品规格        图片靶材，矩形靶材，圆柱靶材，台阶片靶材，管型靶材，根据客户的图纸定制

产品用途 磁控溅射镀膜材料等

产品附件 正式报价单/购销合同/装箱单/材质分析检测单/正规发 票

产品包装 真空包装/真空中性包装/特殊包装外加固包装

适用仪器 各类型号磁控溅射设备

厂家优势

   收货后7日内可协商退换货

   靶材种类齐全