HTR-4立式4寸快速退火炉(芯片热处)

HTR-4立式4寸快速退火炉(芯片热处)

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北京精科智创科技发展有限公司
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谢伟华(先生)
价格
¥135000.00/件
品牌
精科智创
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HTR-01 桌式4英寸快速退火炉

HTR-01 桌式4英寸快速退火炉

  

HTR-01A快速退火炉系列采用红外辐射加热技术,可实现1-10片样品同时进行,可实现4寸晶圆片吋样品快速升温和降温,同时搭配超高精度温度控制系统,可达到**的温场均匀性,对材料的快速热处理(RTP)、快速退火(RTA)、快速热氮化(RTN)、快速热氧化(RTO)及金属合金化等研究和生产起到重要作用。

主要应用领域:

快速热处理(RTP),快速退火(RTA),快速热氧化(RTO),快速热氮化(RTN);离子注入/接触退火;

金属合金;

热氧化处理;

化合物合金(砷化家、氮化物等);多晶硅退火;

太阳能电池片退火;高温退火;

高温扩散。

产品特点

 快速加热和降温: 最高可控升温速率可达50 /s,特定条件下可以达到100 /s。冷壁水冷设计能够达到较大的降温速率,特定条件下可达30 /s

 **控温采用工业级温控器进行PID**控温,目标温度与设定温度曲线一致性高,可实现室温至1200 ℃的温度**控制。

 适应多种工艺环境: 满足多种工艺气氛下的热处理(氮气、氩气等)。同时,通过选配真空泵,可以在真空条件下进行退火,最高真空度可达10-5Pa

 配备观察窗口通过观察窗口,可以实时观察热处理过程中的样品变化。同时,可以结合相关测试方法进行原位测试分析。

 超高安全系数采用炉壁超温报警系统和冷却水流量报警系统,全方位保障仪器使用安全。

 售后服务:,能快速反应客户售后需求。



最大样品尺寸

4英寸(直径20mm

控温范围

RT~1200

升温速率(max)

50/s

高温段降温速率(max

600/min

温度均匀性

1%

控温精度

±0.1

气体流量

标配1路,可扩展至多路

放样管径

Ф210mm*320mm

放样数量

          4-10

真空度

   真空度可以达到10-5

    控制方式

支持真空、氧化、还原、惰性气体等工艺气氛,也可设置通过软件控制真空及通气时间



人气
74
发布时间
2024-08-08 16:29
所属行业
其他专用仪器仪表
编号
40076980
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