钛靶材(纯钛/钛合金) 钛靶材: 98*45/95*40/128*45/100*40

钛靶材(纯钛/钛合金) 钛靶材: 98*45/95*40/128*45/100*40

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钛靶材是一种主要用于物理气相沉积(PVD)技术的特殊材料溅射镀膜是指在真空条件下,利用获得功能的粒子(如离子)轰击靶材料表面,使靶材表面原子获得足够的能量而逃逸的过程称为溅射适合于平面镀,例如:手机后壳,边框,板材等。

钛靶材以纯钛或钛合金为主要成分,经过精细制造而成。

高致密

熔炼设备技术性改造靶材致密度提升至95-99%

高纯度

特质原材料杂质含量低纯度提升至99.99%min

高精度

精密CNC机加中心公差士0.1mm表面粗糙度32Ra

钛靶材是通过真空熔炼-熔模铸造工艺制成的高纯钛或钛合金板坯材料。显著的特性是高纯度和优良的致密性。优质的钛靶材的致密度可以达到99.5%以上,且杂质元素极低,如FeSiONH等元素含量均小于100ppm

此外,钛靶材还具有卓越的均匀性。在制备过程中,采用了三次熔炼和处理,有效改善了钛靶材的组织均匀性。

 

钛靶材主要用途:

激光溅射:

制备机械部件的表面硬化层,提高抗磨性。

制备生物医用钛合金材料的表面涂层,提高生物相容性。

 

电弧蒸发:

制备太阳能电池的前电极透明导电膜。

制备复合材料的钛基增强层。

三、钛靶材的制备方法

冶金法

原理:采用真空电弧冶炼等技术熔炼高纯钛,然后经过多次熔炼淬火、冷轧或锻造等处理,制成钛靶材。

工艺流程:选料→熔炼→淬火锻造→机械加工→检测

优点:钛靶材致密度高,纯度高,均匀性好。

缺点:工艺复杂,能耗高,成本较高。

 

纯度

高纯度钛靶材(99.99%)制备的膜层纯度高,性能好。但靶材耗损快,增加运行成本。低纯度钛靶材虽具有成本优势,但沉积膜的杂质含量高,影响膜层性能。

 

密度

致密度高的钛靶材膜层致密性好,附着力强。但密度过高也会使膜内应力增大。适中密度的钛靶材能获得性能均衡的膜层。

 

表面粗糙度

光亮平整的钛靶材可沉积表面质量更好的膜层。但过度抛光也会导致粒子脱落问题。适度的表面粗糙度有助改善薄膜的附着力。





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发布时间
2023-10-21 09:24
所属行业
编号
40136034
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