SU8模具加工平台旨在为SU8模具加工提供一个gao效、全mian的解决方案，该平台集成了桌面光刻机、匀胶机和热板等he心设备。桌面光刻机，体积小巧，采用LED光源，曝光分辨率可达2um，曝光均匀性大于90%，可实现微纳结构的精细制备；匀胶机，转速稳定性为±0.5%，转速达10000转，可确保光刻胶均匀涂敷，提高一致性；热板，温度稳定性±1%，可为SU8模具提供充分的烘烤，从而提升SU8模具结构的耐久性和机械性能。相比传统加工平台，设备体积庞大，环境要求严苛，SU8光刻机，SU8模具加工平台适应性强，光刻机占地面积小，普通实验室也可轻松部署。SU8模具加工平台，有利于客户快速实现芯片制备，为微流控技术的推广和应用提供便捷途径。
三、前烘
1）将涂布好SU8光刻胶的硅片放置在热板上，进行预热烘烤，去除光刻胶中的挥发性有ji溶剂，时间和温度根据光刻胶厚度进行调整。（举例说明：目标胶厚度50um ，设置温度65℃，烘烤15min，然后温度95度，烘烤15分钟）
四、曝光
1）将预热后的硅片放置在桌面光刻机托盘上。
2）使用相应的掩模（掩膜）放置在硅片上进行曝光，曝光时间和强度根据SU-8光刻胶的类型和厚度进行调整。（举例说明：目标胶厚度50um，设置曝光能量25mw/cm2，时间12s）
五、后烘
将曝光后的硅片放置在热板上，进行后曝光烘烤，以确保光刻胶的交联反应完成。（举例说明：目标胶厚度50um，设置温度65℃，烘烤7min，然后温度95℃，烘烤3min）
六、显影
将硅片放入显影剂中，使未曝光部分的光刻胶溶解，形成模具的图案。（显影时间根据光刻胶厚度和显影剂浓度进行调整，此处显影时间20min）
七、清洗
将显影后的硅片用异bing醇溶剂进行清洗，去除多余的光刻胶。
八、检查
使用显微镜检查制备的SU-8模具，测试观察制备的微结构尺寸，确认图案的清晰度和质量。
4、启动曝光：确认参数设定无误后，点击启动按钮，设备将开始进行曝光。
5、监控曝光过程：在曝光过程中，您可以通过设备界面监控曝光进度，确保一切顺利进行。
6、曝光完成：曝光结束后，设备会发出提示，取出硅片和光刻板。
顶旭微控
顶旭（苏州）微控技术有限公司是一家专注于微流控领域的高科技企业，我们致力于为客户提供微流控芯片定制、表面修饰改性、微流控芯片加工设备、以及微流控仪器等quan面的微流控解决方案。公司团队拥有丰富的经验和技术积累，持续将zhuan业知识与创新思维相结合，为客户提供gao品质的解决方案。我们将始终坚持以客户为中心，不断挑战自我，不断追求zhuo越，通过zhuan业、创新和合作，为客户创造更大的价值，共同开chuang微流控领域的美好未来。
SU8光刻机-顶旭微控技术有限公司(图)由顶旭（苏州）微控技术有限公司提供。顶旭（苏州）微控技术有限公司为客户提供“微流控芯片定制，微流控芯片加工设备，微流控仪器，表面修饰”等业务，公司拥有“微流控芯片定制，微流控芯片加工设备，微流控仪器，表面修饰”等品牌，专注于生物制品等行业。，在苏州工业园区斜塘街道东富路32号雅景综合产业园A栋A217室的名声不错。欢迎来电垂询，联系人：周经理。