自动供液系统（CDS）
半导体CSE-CDS自动供液系统，适用对象：HF 、HNO3 、KOH 、NH4OH 、NAOH、H2SO4 、HCL 、H2O2 、IPA等。
主要用途：本设备主要用于湿法刻蚀清洗等制程工程工序需要的刻蚀液集中进行配送，经管道至设备；具有自动化程度高、配比、操作简便等特点，具有良好的耐腐蚀性能。
控制模式：手动控制模式、自动控制模式。
自动供液系统（CDS）
半导体CSE-CDS自动供液系统，适用对象：HF 、HNO3 、KOH 、NH4OH 、NAOH、H2SO4 、HCL 、H2O2 、IPA等。
主要用途：本设备主要用于湿法刻蚀清洗等制程工程工序需要的刻蚀液集中进行配送，经管道至设备；具有自动化程度高、配比、操作简便等特点，具有良好的耐腐蚀性能。
控制模式：手动控制模式、自动控制模式。