光刻胶的相关内容
光刻胶必须满足几个硬性指标要求：高灵敏度，高对比度，好的蚀刻阻抗性，高分辨力，易于处理，高纯度，长寿命周期，低溶解度，低成本和比较高的玻璃化转换温度（Tg）。
主要的两个性能是灵敏度和分辨力。
感光胶的主要成分是树脂或基体材料、感光化合物以及可控制光刻胶机械性能并使其保持液体状态的溶剂。
树脂在曝光过程中改变分子结构。
感光化合物控制树脂定相的化学反应速度。
溶剂使得胶能在圆片上旋转擦敷并形成薄瞙。
没有感光化合物的光刻胶称为单成分胶或单成分系统，有一种感光剂的情形下，称为二成分系统。
因为溶剂和其他添加物不与胶的感光反应发生直接关系，它们不计入胶的成分。
在曝光过程中，正性胶通过感光化学反应，切断树脂聚合体主链和从链之间的联系，负性光刻胶供应商，达到削弱聚合体的目的，所以曝光后的光刻胶在随后显影处理中溶解度升高。
曝光后的光刻胶溶解速度几乎是未曝光的光刻胶溶解速度的10倍。
而负性胶，在感光反应过程中主链的随机十字链接更为紧密，并且从链下坠物增长，所以聚合体的溶解度降低。
见正性胶在曝光区间显影，负性胶则相反。
负性胶由于曝光区间得到保留，漫射形成的轮廓使显影后的图像为上宽下窄的图像，而正性胶相反，福建负性光刻胶，为下宽上窄的图像。
光刻胶的主要技术参数
1、分辨率:区别硅片表面相邻图形特性的能力，一般用关键尺寸来衡量 分辨率。
形成的关键尺寸越小，光刻胶的分辨率越好。
2、对比度:指光刻胶从曝光区到非曝光区过渡的陡度。
对比度越好，形成图形的侧壁越陡峭，分辨率越好。
3、敏感度:光刻胶上产生一 个良好的图形所需一 定波长的小能量值(或小曝光量)。
单位:焦/平方厘米或mJ/cm2.光刻胶
的敏感性对于波长更短的深紫外光(DUV)、极深紫外光(EUV)等尤为重要。
4、粘滞性/黏度:衡量光刻胶流动特性的参数。
粘滞性随着光刻胶中的溶剂的减少而增加;高的粘滞性会产生厚的光刻胶;越小的
粘滞性，就有越均匀的光刻胶厚度。
5、粘附性:表征光刻胶粘着于衬底的强度。
光刻胶的粘附性不足会导致硅片表面的图形变形。
6、抗蚀性:光刻胶必须保持它的粘附性，在后续的刻蚀I序中保护衬底表面。
7、表面张力:液体中将表面分子拉向液体主体内的分子间吸引力。
光刻胶应该具有比较小的表面张力，使光刻胶具有良好的流动性和覆盖。
8、存储和传送:能量可以启动光刻胶。
应该存储在密闭、低温、不透光的盒中。
同时必须规定光刻胶的闲置期限和存贮温度环境。
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正性光刻胶的结构
光学光刻胶通常包含以下三种成分：(1)聚合物材料(也称为树脂)。
聚合物材料在光的辐照下不发生化学反应，负性光刻胶公司，其主要作用是保证光刻胶薄膜的附着性和抗腐蚀性，负性光刻胶哪里有，同时也决定着光刻胶薄膜的其他一些特性(如光刻胶的膜厚要求、弹性要求和热稳定性要求等)。
(2)感光材料。
感光材料一般为复合性物质(简称PAC或感光剂)。
感光剂在受光辐照之后会发生化学反应。
正胶的感光剂在未曝光区域起抑制溶解的作用，可以减慢光刻胶在显影液中的溶解速度。
以正性胶为例，使用g射线和i射线光刻中的正性胶是由重氮醌(简称为DQ)感光剂和酚树脂构成。
(3)溶剂(如丙二醇-，PGME)。
溶剂的作用是使光刻胶在涂覆到硅片表面之前保持为液态
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