硅靶材
关键词：硅靶材，高纯硅靶材, 硅靶材镀膜, 硅旋转靶材, 硅铝合金靶材, 硅铝旋转靶材, 铝硅靶材
单晶硅靶材、多晶硅靶材、喷涂硅管靶
纯度：99.9-99.999%
硅靶材尺寸：
● 尺寸01：直径<360mm 厚度>1mm （形状：圆片/圆台/圆棒）；
● 尺寸02：长度<600mm 宽度<400mm 厚度>1mm；形状：矩形/片材/台阶状(可拼接）；
● 尺寸03：外直径<360mm，内直径>1mm，壁度>1mm，长度>1mm，最长4000mm（形状：管材/圆环/旋转靶材）；
制作工艺
真空磁悬浮熔炼 ，浇铸成锭，热机械处理和精密机械加工；也可硅旋转靶采用等离子喷涂或者烧结绑定工艺，硅平面靶采用拉晶生长工艺。
应用领域：薄膜太阳能工业，低辐射玻璃工业，平板显示工业，光学镀膜工业，半导体工业，工具及装饰镀膜工业。