器件库内的所有器件不受限于所采用的工艺制程，在更换工艺时，只需更新profile文件，即可生成新的基于新工艺的器件；
Profile中集成了DRC与LVS规则信息，因此用软件生成的器件满足当前工艺的DRC与LVS设计规则；
器件库可以根据客户需求进行定制扩充，用户需要的特殊形状器件，可以得到满足；因此该软件可以用来解决所有的无源器件问题，包括：建模、综合优化以及个性化定制；
射频IC-北京欧普兰公司
T-coils 能提供恒定的输入阻抗，刚好能解决上面的麻烦，前面的接入电路不会再受到重
负载电容影响，仅看到一个恒定的终端电阻，可以进行可靠匹配，消除反射。
上面的问题见下图（a）：对于输入网络， RT是负载电阻， CESD是 ESD 电容（恶化了输入
匹配，导致反射）。如果如下图（b）加入一个 T-coil， 那网络的输入阻抗能设计的始终等于
终端电阻 RT（Zin=RT）， 而不受 CESD影响。可以通过下面两个极端条件看到这种亮点。
l 综合功能：以软件内建函数（Ld,L,Qd,R,etc)）为目标值或者以户自建函数为目标进行综合，由软件自动计算出符合目标要求的器件；
l 扫描功能：允许用户同时扫描多个版图参数（如电感宽度，外径，圈数等）；只要是在器件库中定义的参数，都可以作为扫描目标进行扫描；
l 综合 扫描：综合与扫描一起使用，从而设计出的器件；用户设置综合的目标值并同时设置多个变量进行扫描，软件在设置的参数范围内综合出符合目标值的多个尺寸的器件，供用户在这些满足要求的器件中选择器件（Q值更高或者面积更小），节省
l 成本，提升设计质量；
