曝光是一切光化学成像方法的基本过程与主要特征。
曝光的物理含意是指光线使感光层面(涂了感光化学物)产生潜影。
曝光后的工序是化学显影，显影使潜影显现并固化。
线路板曝光机：用紫外线(UV)的能量，使干膜或印墨中的光敏物质进行光化学反应，以达到选择性局部架桥硬化的效果，完成影像转移的目的称为曝光。
一般使用热板或烘箱来控制温度变化。
光刻工艺中的坚膜工序。
坚膜是在显影后以适当的温度烘干玻璃以除去水分并增强其聚合，曝光显影报价，提高强度的工艺，曝光显影工厂，它增强了胶膜与玻璃的粘附性。
在显影和烘焙之后就是要完成光刻掩膜工艺的质检。
适当地来说应叫显影检验（develop inspect）或DI。
在显影检验工艺，惠城曝光显影，工程师有个判断工艺的性能机会。
显影检验步骤的第二个重要性与在检验时作的拒收有关。
进行曝光操作前，需要对印刷有油墨的pcb高密度多层板进行烘干处理。
光源的选择、曝光时间的长短、底片的生产、储存和使用，曝光机的真空系统和真空曝光框架材料的选择等因素将影响曝光成像的质量。
按相同方法固定另一面底片。
将板件放在干净的曝光机上玻璃面上，盖上曝光机盖并扣紧，关闭进气阀，设置曝光机的真空时间为10秒，曝光时间60秒。
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