MEMS微纳加工厂——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一，主要聚焦半导体产业发展的应用技术研究，兼顾重大技术应用的基础研究，立足于广东省经济社会发展的实际需要，从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究，以及行业应用技术开发。
新一代微纳制造系统应满足的要求：具有微纳特性的组件的小型化连续生产。
微纳加工技术指尺度为亚毫米、微米和纳米量级元件以及由这些元件构成的部件或系统的优化设计、加工、组装、系统集成与应用技术。微纳加工按技术分类，主要分为平面工艺、探针工艺、模型工艺。主要介绍微纳加工的平面工艺，平面工艺主要可分为薄膜工艺、图形化工艺（光刻）、刻蚀工艺。光刻是微纳加工技术中较关键的工艺步骤，真空镀膜微纳加工委托加工，光刻的工艺水平决定产品的制程水平和性能水平。光刻的原理是在基底表面覆盖一层具有高度光敏感性光刻胶，再用光线（一般是紫外光、深紫外光、极紫外光）透过光刻板照射在基底表面，被光线照射到的光刻胶会发生反应。此后用显影液洗去被照射/未被照射的光刻胶，就实现了图形从光刻板到基底的转移。
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微纳制造的加工材料多种多样。
首先介绍了微纳制造的关键工艺技术——光刻技术。回顾了光刻技术的发展历程，介绍了各阶段主流光刻技术的基本原理和特点。阐述了国内外对光刻技术的研究现状，生物芯片微纳加工委托加工，并讨论了光刻与微纳制造技术面临的挑战及其需要解决的关键性技术问题。然后重点介绍了浸没光刻，极紫外光刻，电子束光刻，四川微纳加工委托加工，离子束光刻，X射线光刻，纳米压印光刻等技术的概念，发展过程和特点，并对不同光刻技术的优缺点和生产适用条件进行了比较。末尾结合国内外生产商，工程师和研究学者的研究成果，对光刻技术的未来发展做出展望。
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微纳加工技术对现代的生活、生产产生了巨大的促进作用，并催生了一批新兴产业。
掩模板是根据放大了的原图制备的带有透明窗口的模板。例如，可以用平整的玻璃板，涂覆上金属铬薄膜，通过类似照相制版的方法制备而成。具有微纳图形结构的掩模板通常使用电子束光刻机直接制备，MEMS微纳加工委托加工，其制作过程就是典型的光刻工艺过程，包括金属各层沉积、涂胶、电子束光刻、显影、铬层腐蚀及去胶等过程。由于模板像素超多，用扫描式光刻机制作掩模板的速度相当慢，造价十分昂贵。曝光光刻是图形形成的中心工艺过程，可分为正胶工艺和负胶工艺，采用相同掩模板制作时，二者可获得互补的图形结构。另外，按照不同工作距离可分为接近式曝光、近贴式曝光（接触曝光）和投射式光学曝光；按照曝光系统的工作光源又可分为紫外线曝光、X射线与及紫外线曝光、电子束与离子束曝光。此外，微纳印刷技术（，如纳米压印技术，在纳米结构及器件制作中也得到了良好的发展，其高i效的图形复i制特点使之在工业界极具吸引力。卷对卷滚轴压印技术已经被产线普遍采用。
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