锂电XRD检测半导体XRD检测——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一，主要聚焦半导体产业发展的应用技术研究，兼顾重大技术应用的基础研究，从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究，以及行业应用技术开发。
什么样的样品适合生长单晶？分子结构角度考虑：
刚性化合物比柔性的更容易，链超过4 个碳的一般难以培养单晶；
从晶体学家角度考虑，分子中好不含叔丁基，因为容易无序，影响单晶解析的质量，但是从化学角度考虑，叔丁基可增加溶解度，所以也经常使用。和根等也存在类似的问题；
更换取代基有时会有理想的效果。如 4－取代化合物比取代化合物往往容易长单晶。
外观角度判断培养前景：
旋蒸或简单重结晶所得样品，如果光泽很好 (不是贴在烧瓶内壁的一层薄膜刮下来之后产生的光泽)，锂电XRD检测多少钱，在显微镜下观察，如果是块状，有规则外形，则容易生长；
油状物很难长出单晶，经过进一步提纯后再去培养。
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1）若样品为退火态粉末，上海锂电XRD检测，此时无应变产生，衍射线宽化完全因样品晶粒尺寸过小导致的，此时应选择SIZE only。
2）若样品为合金块状样品 ，结晶完整且加工过程中没有破碎，此时，锂电XRD检测价格，线性宽化是由微观应变引起的，选择Strain only。
3）如样品存在上述两种情况，则应选择size/strain。
注意
a.利用XRD进行晶粒大小计算时，前提是假定晶粒为“球形”，所以其测出来的粒径不是很可靠，结果总是小于SEM和TEM，但无法进行和TEM时，其结果仍具有一定的参考依据。
b.该方法获得的晶粒尺寸是平均晶粒尺寸，是不同晶面上各衍射方向晶粒度大均值，若需要计算某一晶面上的晶粒尺寸，可采用“计算峰面积”命令。
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制作试片的技巧
压片法：粉末均匀撒入样品池——用小刀剁实压紧——刮去多余凸出的粉末
涂片法：粉末撒在25mm*35mm*1mm的载玻片上——滴上足量的或酒精（假如试样在其中不溶解）——待/酒精挥发
两种制备几乎无择优取向试片的方法：（塑合法）（喷雾法）
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