稀土抛光粉的粒度及粒度分布对抛光粉性能有重要影响。
对于一定组分和加工工艺的抛光粉，平均颗粒尺寸越大，则玻璃磨削速度和表面粗糙度越大。在大多数情况下，颗粒尺寸约为4μm的抛光粉磨削速度。相反地，如果抛光粉颗粒平均粒度较小，则磨削量减少，磨削速度降低，玻璃表面平整度提高，标准抛光粉一般有较窄的粒度分布，太细和太粗的颗粒很少，无大颗粒的抛光粉能抛光出高质量的表面，而细颗粒少的抛光粉能提高磨削速度。
对于高抛光粉来讲，氧化的品位越高，稀土抛光粉用什么做的，抛光能力越大，使用寿命也增加，特别是硬质玻璃长时间循环抛光时（石英、光学镜头等），以使用高品位的抛光粉为宜。低抛光粉一般含有50%左右的CeO2，其余50%为La2O3?SO3，Nd2O3?SO3，Pr6O11?SO3等碱性盐或LaOF、NdOF、PrOF等碱性氟化物，此类抛光粉特点是成本低及初始抛光能力与高抛光粉比几乎没有两样，因而广泛用于平板玻璃、显像管玻璃、眼镜片等的玻璃抛光，但使用寿命难免要比高抛光粉低。
因此其粒度分布一般不大于10μm，稀土抛光粉厂家，粒度大于10μm的抛光粉（包括稀土抛光粉）大多用在玻璃加工初期的粗磨。小于1μm的亚微米级稀土抛光粉，汕头稀土抛光粉，由于在液晶显示器与电脑光盘领域的应用逐渐受到重视，产量逐年提高。纳米级稀土抛光粉目前也已经问世，随着现代科学技术的发展，稀土抛光粉作用，其应用前景不可预测，但目前其市场份额还很小，属于研发阶段。
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