真空镀膜外协MEMS真空镀膜加工平台——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一，主要聚焦半导体产业发展的应用技术研究，兼顾重大技术应用的基础研究，立足于广东省经济社会发展的实际需要，从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究，以及行业应用技术开发。
那么电子束蒸发镀膜机，主要应用在哪些领域呢？电子束蒸发镀膜机，因其高沉积速率和高材料利用效率而被广发应用于例如航空航天领域、汽车行业、激光科学，我们常见的太阳能电池板、建筑玻璃，主要是赋予这些所需的导电、反射和透射的特性。另外，还有一些，行业或产品，对材料的耐高温、耐磨性有很高的要求和标准，这些都需要电子束蒸发镀膜。
另外，比较被常被问到的一个问题就是，电子束蒸发镀膜和热蒸发相比，有哪些优势呢？
二者主要的区别，也是本质的区别是工作原理不同。上面我们提到了，电子束热蒸发镀膜的工作原理是使用电子束轰击材料源，产生高能热量，使材料蒸发，而热蒸发，顾名思义是通过加热来完成这一工作流程的。
首先电子束蒸发源尺寸多样，还可以分为单腔或者多腔。因为其加热温度高，可允许高温材料和难熔金属的非常高的沉积速率和蒸发。其次，电子束蒸发镀膜可以控制污染，甚至可以说，由于能够严格限制原材料占据区域，从而可以消除相邻组件间的不必要污染。而且电子束蒸发相比热蒸发，可以沉积更薄、更高纯度的薄膜。
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(3) 启动机械泵，抽一分钟左右之后，打开复合真空计，当示数约为10E-1量级时，启动分子泵，频率为400HZ (默认)，同时预热离子清洗打开直流或射流电源及流量显示仪。
(4) (选择操作)打开加热控温电源。启动急停控制，报警至于通位置，功能选则为烘烤。
(5)当真空度达到5X 10-4Pa时，关闭复合真空计，开启电离真空计，通气(流量20L/min)，打开气路阀，将流量计I拨至阀控档，稳定后打开离子源，依次调节加速至200V~250V，中和到12A左右，阳极80V;阴极10V，阳极300V。从监控程序中调出工艺设置文件，启动开始清洗。
(6)清洗完成后，按离子源参数调节相反的顺序将各参数归零，关闭离子源，将流量计Ⅱ置于关闭档。
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关于电子束热蒸发镀膜机，绝大部分的人根本都没听说过，电子束热蒸发镀膜机是一种应用于机械工程、物理科学、材料科学领域的一种计量仪器。
电子束蒸发是一种物理气相沉积（PVD）技术，物理气相沉积技术，本质是在真空条件下，采用物理方法，将材料汽化，然后通过低压气体过程，使材料蒸发再沉积，成为具有某种特殊功能的薄膜。真空蒸镀是PVD技术中使用早的方法。真空蒸镀的基本原理，是在真空条件下，使金属、金属合金等蒸发，然后沉积在基体表面，而蒸发常见方法有：电阻加热、高频感应加热、电子束、激光束等高能轰击镀料，使其蒸发再沉积。
所以，电子束蒸发镀膜机的其工作原理就不难理解了：，电子束蒸发及在真空下，利用电子束直接加热蒸发材料，并将蒸发的下料输送到基板上，形成一个高纯高精的镀膜。
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