碳化钼靶材MoC靶材磁控溅射靶材

科研实验专用 碳化钼靶材MoC靶材磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料

纯度 99.99%

产品介绍

碳化钼具有较高熔点和硬度、良好热稳定性和机械稳定性和很好抗腐蚀性等特点。熔点为2692℃。不溶于水和碱液，微溶于硝酸、硫酸和氢氟酸。

碳化钼主要催化反应类型：

1、加氢氢解反应；

2、加氢脱硫HDS和加氢脱氮HDN反应；

3、异构化反应；

4、烃类转化与合成反应；

5、氨合成中的应用。

产品参数

中文名 碳化钼                   化学式 MoC

分子量 107.95                   熔点 2692℃

水溶性 不溶于水                 密度为9.18g/cm

陶瓷靶材采用常压烧结,气氛烧结,热等静压烧结等工艺,严格控制原料的纯度,成分及成型坯料额设计尺寸,坯料经过精密机械加工成靶材,可根据客户要求定制加工特殊掺杂比例靶材。

产品优势    靶材纯度高,致密度高,成分均匀

产品规格     图片靶材，矩形靶材，圆柱靶材，台阶片靶材，管型靶材，根据客户的图纸定制

产品用途 磁控溅射镀膜材料等

产品附件 正式报价单/购销合同/装箱单/材质分析检测单/正规发 票

产品包装 真空包装/真空中性包装/特殊包装外加固包装

适用仪器 各类型号磁控溅射设备

厂家优势

   收货后7日内可协商退换货

   靶材种类齐全