铜靶材铜块靶材铜片靶材Cu靶材溅射镀膜铜靶高纯无氧铜

      陶瓷靶材采用常压烧结,气氛烧结,热等静压烧结等工艺,严格控制原料的纯度,成分及成型坯料额设计尺寸,坯料经过精密机械加工成靶材,可根据客户要求定制加工特殊掺杂比例靶材。

     支持合金靶材定制，请提供靶材产品的元素、比例（重量比或原子比）、规格，我们会尽快为您报价！！

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铜靶材铜块靶材铜片靶材Cu靶材溅射镀膜铜靶高纯无氧铜磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料

纯度 99.999%

产品介绍

     铜是人类最早使用的金属之一，为呈紫红色光泽的金属，它是一种过渡元素，延展性好，导热性和导电性高，因此在电缆和电气、电子元件是最常用的材料，也可用作建筑材料，可以组成众多种合金。铜的活动性较弱，铁单质与硫酸铜反应可以置换出铜单质。铜单质不溶于非氧化性酸。在常温下不与干燥空气中的氧气化合，加热时能产生黑色的氧化铜，在潮湿的空气中放久后，铜表面会慢慢生成一层铜绿（碱式碳酸铜），铜绿可防止金属进一步腐蚀；铜会被硝酸、浓硫酸（需加热）等氧化性酸氧化而溶解。广泛应用于电气、轻工、机械制造、建筑工业、国防工业等领域，在中国有色金属材料的消费中仅次于铝。铜是一种红色金属，同时也是一种回收便利的绿色金属。

    铜靶材是真空镀膜行业溅射靶材中的一种，是高纯铜材料经过系列加工后的产品，具有特定的尺寸和形状高纯铜材料。由于高纯铜特别是超高纯铜具有许多优良的特性，目前已广泛应用于电子、通信、超导、航天等领域。

铜靶材用途

     适用于直流二极溅射、三极溅射、四级溅射、射频溅射、对向靶溅射、离子束溅射、磁控溅射等，可镀制反光膜、导电膜、半导体薄膜、电容器薄膜、装饰膜、保护膜、集成电路、显示器等，相对其它靶材，铜靶材的价格较低，所以铜靶材是在能满足膜层的功能前提下的靶材料。

产品参数

中文名 铜  分子量 63.546   原子序数 29    熔点（°C） 1357.77K(1083.4℃)

密度   8.960（固态）8.920（熔融液态） 沸    点 单质2835K（2562℃）  原子半径 145pm  莫氏硬度 3

产品优势        靶材纯度高,致密度高,成分均匀

产品规格        图片靶材，矩形靶材，圆柱靶材，台阶片靶材，管型靶材，根据客户的图纸定制

产品用途 磁控溅射镀膜材料等

产品附件 正式报价单/购销合同/装箱单/材质分析检测单

适用仪器 各类型号磁控溅射设备

服务项目  靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位货到付款，质量保证，售后无忧

加工流程  熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库

公司介绍

    北京晶迈中科材料技术有限公司坐落于北京通州区创建于2015年,是国内有色金属行业综合性研究开发公司。 现有员工100余人。我公司光学镀膜材料中心以国内领先的技术，多年来一直专业从事光学镀膜材料及溅射靶材的研发与生产。靶材包括各种氧化物、硫化物、氟化物、碲化物、硒化物、硼化物、复合物、金属及合金等，也可根据您的要求量身定做。通过严格控制生产、并持续改进、稳步发展，致力为客户提供最优质的产品。

     公司现有靶材热压炉；真空蒸馏装置，电解槽，单晶炉，区熔装置，CVD（化学气象沉积）装置，PVD（物理气象沉积）装置，移动式加热装置等多种高纯金属和化合物生产研发设备；提纯工艺包括：真空蒸馏；精馏；区域熔炼；电解；化学气象沉积；物理气象沉积；热扩散；单晶提拉法等。纯度从99.9%-99.99999%,公司先后研发的蒸发材料、溅射靶材系列产品，产品涉及工具/装饰镀膜、玻璃镀膜、光学镀膜、平面显示/触摸屏镀膜、薄膜太阳能镀膜等多个领域广泛应用到国内外众多知名太阳能、航空航天、生物医疗、微电子、信息储存、汽车、船舶、装饰、工业镀膜、新能源企业当中。

     自有设备：真空热压炉，真空中频感应熔炼炉，冷坩埚悬浮熔炼炉，非自耗真空电弧炉，真空高温加热炉，真空烧结炉，真空蒸馏炉，定向凝固，区域熔炼炉，多温区加热炉，单晶炉，高温烧结炉，单温区，双温区、多温区液相、气相合成炉、氧化炉、加工设备。

     北京晶迈中科材料技术有限公司几年来已先后与国内几十家知名高校、中科院等研究院所建立了长期友好的合作关系，并与这些科研单位有密切的学术交流和技术合作项目，并远销欧洲、美国、日本、韩国等，在镀膜行业拥有良好的声誉。