磁控溅射科研高纯银(Ag)镀膜靶材PVD镀膜材料以及背板绑定

磁控溅射科研高纯银(Ag)镀膜靶材PVD镀膜材料以及背板绑定

发布商家
上海振卡新材料科技有限公司
联系人
陈方波(先生)
职位
业务
电话
021-31396237
手机
13564135680
价格
¥200.00/件
品牌
zenkaah
纯度
99.9999%
密度
10.4970g/cm3
熔点
961℃
起订
1件
发货
3天内

磁控溅射高纯银(Ag)镀膜靶材,作为现代工业材料技术中的佼佼者,凭借其独特的特性与广泛的应用优势,在半导体、光电子、医疗器械等多个领域展现出了非凡的潜力与价值。

银靶(Ag)规格:圆靶、板靶,纯度: 99.9999%;密度: 10.4970g/cm3;熔点: 961℃

PRECIOUS metaLS   稀贵金属材料、电子束蒸发颗粒

Gold (Au)

Palladium (Pd)

Silver (Ag)

Platinum (Pt)

Gold Arsenic (AuAs)

Rhenium (Re)

Gold Tin (AuSn)

Rhodium (Rh)

Iridium (Ir)

Ruthenium (Ru)

Osmium (Os)


我司深耕靶材领域十年,专注研发与生产,铸就行业精品。所生产稀贵金属材料如下:

一:特性概述

磁控溅射高纯银靶材,其核心特性在于其高纯度与卓越的物理性能。这类靶材通常银含量,确保了镀膜过程中极低的杂质引入,从而显著提升了薄膜的电学、光学性能及稳定性。高纯银靶材具有良好的导热导电性,能有效促进镀膜过程中的热量散失与电荷传输,确保薄膜的均匀沉积与高质量形成。此外,其优良的化学稳定性使得镀膜层在多种环境下均能保持稳定的性能,延长了产品的使用寿命。银靶(Ag)规格:圆靶、板靶,纯度: 99.999%;密度: 10.4970g/cm3;熔点: 961℃

二:行业应用优势

1、半导体行业:在半导体制造过程中,磁控溅射高纯银靶材被广泛应用于沉积导电层、反射层等关键薄膜。其高纯度特性有效降低了杂质对半导体器件性能的影响,提升了器件的良率与可靠性。同时,磁控溅射技术的高效性与均匀性,确保了导电层与反射层的高质量制备,对于提升半导体器件的整体性能具有重要意义。

 

2、光电子行业:在光电子器件的制造中,磁控溅射高纯银靶材同样发挥着重要作用。通过**控制镀膜过程,可以制备出具有优异光学性能的薄膜,如反射膜、增透膜等,有效提升光电设备的效率与输出质量。特别是在光学传感器、LED照明等领域,高纯银靶材的应用使得产品性能更加优越,满足了市场对高品质光电产品的需求。

 

3、医疗器械行业:随着医疗技术的不断进步,磁控溅射高纯银靶材在医疗器械领域的应用也日益广泛。通过溅射技术,可以在医疗器械表面形成具有抗菌、抗炎性能的银基复合薄膜,显著提升医疗器械的安全性与耐用性。同时,高纯银靶材的引入还有助于减少患者使用过程中的感染风险,为医疗安全保驾护航。

****,磁控溅射高纯银(Ag)镀膜靶材以其独特的特性与广泛的应用优势,在现代工业中占据了举足轻重的地位。未来,随着技术的不断进步与应用的持续拓展,磁控溅射高纯银靶材有望在更多领域展现其卓越的性能与价值,为人类社会的发展贡献更大的力量。


人气
12
发布时间
2024-10-17 08:53
所属行业
编号
41287324
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