Aluminum Oxide(Al₂O₃),即氧化铝靶材
高纯度氧化铝Al₂O₃靶材,应用在磁控溅射镀膜等工艺中,我司提供各类氧化物靶材和背板绑定Bonding服务。
Aluminum Oxide(Al₂O₃),即氧化铝靶材,作为一种高性能的高纯溅射靶材材料,在薄膜制备领域展现出了其独特的物理特性和广泛的应用优势。我司深耕靶材领域十年,专注研发与生产,铸就行业精品。所生产氧化物靶材 材料如下:
OXIDES 氧化物 | |
Aluminum Oxide (Al2O3) | Magnesium Oxide (MgO) |
Antimony Oxide (Sb2O3) | Zirconium-Magnesium Oxide(ZrMgO3) |
Barium Titanate (BaTiO3) | Magnesium-Zirconium Oxide (MgZrO3) |
Bismuth Oxide (Bi2O3) | Molybdenum Oxide (MoO3) |
Bismuth Titanate (Bi2Ti4O11) | Nickel-Chrome Oxide (CrNiO4) |
Cerium Oxide (CeO2) | Nickel-Cobalt Oxide(NiCoO2) |
Cobalt-Chrome Oxide (CoCr2O4) | Niobium Pentoxide (Nb2O5) |
Chromium Oxide (Cr2O3) | Rare Earth Garnets A3B2(SiO4)3 |
Chromium Oxide (Eu doped) | Rare Earth Oxides (La2O3) |
Gallium Oxide (Ga2O3) | Silicon Dioxide (SiO2) |
Germanium Oxide (GeO3) | Silicon Monoxide (SiO) |
Hafnium Oxide (HfO2) | Tantalum Pentoxide (Ta2O5) |
Indium Oxide (In2O3) | Tin Oxide (SnO2) |
Indium-Tin Oxide (ITO) | Titanium Dioxide (TiO2) |
Iron Oxide (Fe2O3) | Tungsten Oxide (WO3) |
Lanthanum Oxide(La2O3) | Yttrium Oxide (Y2O3) |
Lead Titanate(PbTiO3) | Yttrium-Aluminum Oxide (Y3Al5O12) |
Lead Zirconate (ZrPbO3) | Zinc Oxide (ZnO) |
Lithium Niobate (LiNbO3) | Zinc Oxide/Aluminum Oxide (Al2O3) |
Lithium-Cobalt Oxide (CoLiO2) | Zirconium Oxide (ZrO2) |
一、氧化物(Al2O3)靶材特性:
1、首先,从纯度方面来看,氧化铝靶材的纯度通常达到99.99%以上,甚至可达99.999%的极高纯度。这种高纯度确保了靶材在溅射过程中能够提供稳定且纯净的溅射源,从而制备出质量卓越的薄膜。高纯度还减少了杂质对薄膜性能的影响,如电学性能、光学性能及化学稳定性等,使得氧化铝薄膜在多个领域中的应用更加可靠和高效。
2、在密度方面,氧化铝靶材的密度约为3.97~4.0g/cm³(真密度),这为其在溅射过程中提供了良好的稳定性。高密度使得靶材在溅射时能够保持均匀的溅射速率和薄膜厚度,从而提高了薄膜的均匀性和一致性。此外,高密度还赋予了氧化铝薄膜优异的机械性能和耐磨性,使其在需要高硬度、高耐磨性的应用中表现出色。
3、熔点方面,氧化铝的熔点高达2054°C,这一特性使得氧化铝靶材能够在高温环境下保持稳定,不易熔化或变形。这种高温稳定性对于需要高温溅射或沉积工艺的应用场景至关重要,如化学气相沉积(CVD)等高温工艺中。同时,高熔点也确保了氧化铝薄膜在高温环境下的稳定性和耐久性,使得其在航空航天、能源存储等极端环境中的应用更加可靠。
三、行业应用:
氧化铝靶材展现出了广泛的应用优势。在半导体领域,氧化铝薄膜作为介电层、钝化层或绝缘层,能够显著提高器件的性能和可靠性。其优异的绝缘性能和稳定的化学性质,使得氧化铝薄膜成为制造高性能电容器、晶体管等微电子器件的理想材料。此外,在光学领域,氧化铝薄膜被广泛应用于抗反射涂层、高反射涂层和透明导电膜等光学元件的制备中,提高了产品的光学性能和美观度。在装饰保护领域,氧化铝薄膜因其良好的耐磨性和化学稳定性,被用作家具、建筑材料等表面的装饰和保护涂层,延长了产品的使用寿命。
****,Aluminum Oxide(Al₂O₃)氧化铝靶材以其高纯度、高密度和高熔点等优异特性,在半导体、光学、装饰保护等多个领域中展现出了广泛的应用优势和巨大的市场潜力。随着技术的不断进步和应用领域的不断拓展,氧化铝靶材必将在更多领域中发挥重要作用。