贵金属靶产品总述：
随着靶材在磁记录介质、电子半导体、薄膜太阳能及平面显示等产业的发展，我们加大在稀贵金属靶材研发和制备方面的投入力度，通过原料控制、真空感应熔炼、挤压、轧制、真空热压烧结、热等静压、放电等离子体烧结等不同工艺, 并采用严格的质量控制过程，我们能够制备多种靶材并能一直保持着批量供货。
稀贵重金属名称： | 铂靶、钯靶、银靶、铱靶、铑靶 |
牌号规格： | Pt1、Pd1、Ag1、Ir1、Rh1 |
用途 ： | 主要用于磁记录介质、电子半导体、薄膜太阳能及平面显示等领域。 |
贵金属磁控溅射沉积镀膜钯靶材Palladium (Pd) Targets
规格尺寸：
形状 | 圆形、方形 |
尺寸 | 按客户要求定制加工 |
厚度 | 按客户要求定制 |
纯度 | ≥4N |
注：具体尺寸请联系销售。
贵金属钯（Palladium, Pd）
一、高纯磁控溅射贵金属钯（Palladium, Pd）镀膜靶材、钯粒及钯板材料，以其独特的物理特性和广泛的应用优势，在高科技产业中占据了举足轻重的地位。
我司深耕靶材领域十年，专注研发与生产，铸就行业精品。所生产单材质靶材如下：
SINGLE ELEMENTS 单材质靶材、电子束蒸发颗粒 | |
Aluminum (Al) | Nickel (Ni) |
Antimony (Sb) | Niobium (Nb) |
Arsenic (As) | Osmium (Os) |
Barium (Ba) | Palladium (Pd) |
Beryllium (Be) | Platinum (Pt) |
Boron (B) | Rhenium (Re) |
Cadmium (Cd) | Rhodium (Rh) |
Carbon (C) | Rubidium (Rb) |
Chromium (Cr) | Ruthenium (Ru) |
Cobalt (Co) | Selenium (Se) |
Copper (Cu) | Silicon (Si) |
Gallium (Ga) | Silver (Ag) |
Germanium (Ge) | Tantalum (Ta) |
Gold (Au) | Tellurium (Te) |
Hafnium (Hf) | Tin (Sn) |
Indium (In) | Titanium (Ti) |
Iridium (Ir) | Tungsten (W) |
Iron (Fe) | Vanadium (V) |
Lead (Pb) | Yttrium (Y) |
Magnesium (Mg) | Zinc (Zn) |
Manganese (Mn) | Zirconium (Zr) |
Molybdenum (Mo) | |
二、材料特性：
高纯钯靶材、钯粒及钯板均具备极高的纯度，通常达到99.99%甚至更高（即4N或更高），这意味着它们在制造过程中几乎不含杂质，确保了镀膜过程的纯净性和最终产品的卓越性能。钯的密度为12.023 g/cm³，使得钯靶材在溅射过程中能够稳定地释放原子，形成致密且均匀的薄膜。同时，钯的熔点高达1554°C，这一特性赋予了钯靶材在高温环境下的稳定性和耐用性，为高温镀膜工艺提供了有力支持。
三、行业应用：
1、高纯钯靶材、钯粒及钯板材料展现出了多方面的优势。首先，其高纯度特性确保了镀膜过程中杂质引入的减少，从而提高了薄膜的纯净度和性能稳定性。这对于需要高精度和高可靠性的电子器件、光学元件及太阳能电池等领域来说至关重要。例如，在平面显示领域，高纯钯靶材被广泛应用于制备透明导电膜，使触摸屏和液晶显示器的显示效果更加清晰明亮；在太阳能电池领域，钯靶材则用于导电层和反射层的制备，提高了光电转换效率和入射光的利用率。
2、钯靶材、钯粒及钯板材料还因其良好的导电性、光反射性和耐腐蚀性能而受到青睐。这些特性使得钯材在制备导电薄膜、反射膜及耐腐蚀涂层等方面具有独特优势。例如，在半导体行业中，钯靶材可用于制备导电层和隔离层，确保电导率的稳定性和高致密性，避免杂质的进入；在光学元器件制造中，钯靶材则因其优异的反射性能而被用于反射镜的制备。
3、更为重要的是，高纯钯靶材、钯粒及钯板材料还具备可定制性，能够根据客户需求调整元素比例、规格和纯度。这种灵活性使得钯材在更多特定应用场合中展现出无限可能。例如，在科研实验中，研究人员可以根据实验需求定制钯靶材的规格和纯度，以获得理想的实验结果；在工业生产中，企业也可以根据产品特性选择合适的钯材种类和规格，以提高生产效率和产品质量。
****，高纯磁控溅射贵金属钯镀膜靶材、钯粒及钯板材料以其独特的物理特性和广泛的应用优势，在高科技产业中发挥着重要作用。随着技术的不断进步和应用领域的不断拓展，钯材的未来发展前景将更加广阔。