氧化钆靶材Gd2O3磁控溅射靶材

氧化钆靶材Gd2O3磁控溅射靶材

发布商家
北京晶迈中科材料技术有限公司
联系人
张英(女士)
职位
销售
电话
4000903950
手机
13301329625
价格
¥1000.00/片
品牌
晶迈中科
规格
根据客户要求定制
起订
1片
供应
10片
发货
21天内
 科研实验专用氧化钆靶材Gd2O3磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料
产品介绍
      氧化钆(Gd2O3)不溶于水,溶于酸生成对应的盐,露置于空气中时,易吸收空气中的水和二氧化碳而变质;能与氨作用,生成钆的水合物沉淀。
用作钇铝和钇铁石榴石掺入剂、医疗器械中的增感荧光材料、核反应堆控制材料、金属钆的制取原料、制磁泡材料和光学棱镜添加剂等。

产品参数
中文名 氧化钆             分子式 Gd2O3           分子量 362.4982
沸点 3900℃               熔点 2339℃               密度 7.407g/cm3
 
支持靶材定制,请提供靶材产品的元素、比例(重量比或原子比)、规格,我们会尽快为您报价!! 
服务项目:靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。
科研单位货到付款,质量保证,售后无忧!
产品附件:发货时产品附带装箱单/质检单/产品为真空包装
适用仪器:多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备 
质量控制:严格控制生产工艺,采用辉光放电质谱法GDMS或ICP光谱法等多种检测手段,分析杂质元素含量保证材料的高纯度与细小晶粒度;可提供质检报告。
 
加工流程:熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库
       陶瓷化合物靶材本身质脆且导热性差,连续长时间溅射易发生靶裂情况,绑定背靶后,可提高化合物靶材的导热性能,提高靶材的使用寿命。
我们强烈建议您,选购陶瓷化合物靶材一定要绑定铜背靶!
       我公司采用高纯铟作为焊料,铟焊厚度约为0.2mm,高纯无氧铜作为背靶。
       注意:高纯铟的熔点约为156℃,靶材工作温度超过熔点会导致铟熔化!绑定背靶不影响靶材的正常使用!
       建议:陶瓷脆性靶材、烧结靶材,高功率下溅射易碎,建议溅射功率不超过3W/cm2。
 
人气
214
发布时间
2021-08-03 11:46
所属行业
基本金属
编号
24150653
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