低压气相沉积真空镀膜厂家 浙江真空镀膜厂家 半导体研究所

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低压气相沉积真空镀膜加工厂——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一,主要聚焦半导体产业发展的应用技术研究,兼顾重大技术应用的基础研究,立足于广东省经济社会发展的实际需要,从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究,以及行业应用技术开发。


 真空镀膜设备选购要点分析如下:

1、炉体可选择由不锈钢、碳钢或它们的组合制成的双层水冷结构。

2、根据工艺要求选择不同规格及类型的镀膜设备,其类型有电阻蒸发、电子束蒸发、磁控溅射、磁控反应溅射、离子镀、多弧离子镀等。

3、夹具运转形式有自转、公转及公转 自转方式,用户可根据基片尺寸及形状提出相应要求,转动的速度范围及转动精度:普通可调及变频调速等。

4、真空系统由机械泵、扩散泵、油增压泵、增扩泵、罗茨泵、埚轮分子泵等及与它们相匹配的各种气动、手动、电动阀门、管道等组成。




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 PECVD的维护保养:要正确规范地使用该设备,除了使用前进行必要的调试、使用过程中的正确操作之外,还需要对该设备定期进行保养及其维修,一般分为以下几个方面:1.保持真空度。工艺完成后,不继续做工艺时,ITO镀膜真空镀膜厂家,必须保持工艺管内为真空状态,每天做工艺时可查看各真空压力表读数,以便确定工艺管密封是否良好。2.保护气路。在做完工艺后,必须按说明书要求去操作。当环境温度较高时,产生的反应物会堵塞质量流量计,所以千万不要让工艺气体留在管路中。3.保护罗茨泵机。为了保护罗茨泵机组的寿命,要经常更换机械泵油,只要油泵观察窗发现油黑了就必须更换。设备用在生产线上一般5天必须更换一次油(干泵机组例外)。4.定期进行酸洗。为了良好的工艺、优良的沉积膜,浙江真空镀膜厂家,工艺管要定期进行酸洗,在生产线上至少一个月洗一次。




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 磁控反应溅射绝缘体看似容易,而实际操作困难。主要问题是反应不光发生在零件表面,也发生在阳极,真空腔体表面,以及靶源表面。从而引起灭火,靶源和工件表面起弧等。德国莱宝发明的孪生靶源技术,很好的解决了这个问题。其原理是一对靶源互相为阴阳极,从而消除阳极表面氧化或氮化。冷却是一切源(磁控,多弧,离子)所必需,反射溅射真空镀膜厂家,因为能量很大一部分转为热量,若无冷却或冷却不足,这种热量将使靶源温度达一千度以上从而溶化整个靶源。




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发布时间
2022-10-23 11:27
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