AlGaN材料XRD检测半导体XRD检测——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一，主要聚焦半导体产业发展的应用技术研究，AlGaN材料XRD检测分析，兼顾重大技术应用的基础研究，从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究，以及行业应用技术开发。
用 XRD 图来精修出分子结构研究分子的性质， 收集 XRD 时应注意些什么?
强度要高，中等强度的衍射峰强度要达到 5000 计数以上；衍射峰的分辨要尽可能的好；扫描范围要大，大 d 值的峰不能缺失。衍射峰的强度和很多因素有关，比如样品的衍射能力，性质，还有仪器功率，测试方法，检测器的灵敏度等等。
做 XRD 时步长一般为 0.02 度，但是如果要做 Rietveld 分析，出了强度要求 500 以上，步长有没有什么要求啊？
一个半峰宽内有 3-5个点就可以了，步长一般为 FWHM 的 0.2-0.3 就可以了。强度要求在10000-20000之间。
3如果用普通的xrd仪器如 brucker D8或者 philips 等测试粉末的 xrd，扫描速度需要多慢才适合用 gsas 等方法作rietveld分析，AlGaN材料XRD检测服务，需要加内标吗？
扫描速度的快慢是根据你的数据强度要求来确定的，如果要做结构精修，中等强度的衍射峰的强度应该在 5000 以上，至于内标是不需要的。
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X-射线照射到超细粉末颗粒（粒径小于几百埃，不管其是晶体还是非晶体）也会发生相干散射现象，也发生在低角度区。但是由微细颗粒产生的相干散射图的特征与上述的由超大晶面间距或薄膜产生的小角 X 射线衍射图的特征完全不同。小角衍射，一般应用于测定超大晶面间距或薄膜厚度以及薄膜的微观周期结构、周期排列的孔分布等问题；小角散射则是应用于测定超细粉体或疏松多孔材料孔分布的有关性质 。
X-射线照射到样品上还会发生非相干散射，AlGaN材料XRD检测平台，其强度分别也主要集中在在低角度范围，康普顿散射就属于此类，其结果是增加背景。
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好有其它分析、测量得到的化学、物理信息要紧的是需要比较可靠的化学组成分析结果，用来计算出化学式；如有可能，好能测定出样品密度，以便用于计算晶胞内容。可以用专门的仪器测定密度。如果自己手头缺乏密度测定仪器，可以把粉末压片，用千分尺量出样品直径和厚度计算体积，用电子天平测出重量，得到实验测量的密度值（肯定比理论值小，因为有空隙），但比没有数据好多了。
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