高纯度稀有金属铼靶材 磁控溅射靶材 Rhenium (Re) 铼钨铼钼合金靶板 PVD镀膜材料
产品名称： | 铼靶 Rhenium (Re) |
牌号规格： | Re1 |
用途 ： | 主要用于高温恶劣条件下的电极材料，宇宙航空设备的部件制造。 |
产 品 详 情
铼是一种银色金属，由于铼的价格较高，因此在应用上受到了限制。可做为磁控溅射使用，常见的有铼板、铼坩锅、铼颗粒、铼丝材；铼的合金有钨铼合金（W-Re）、钼铼合金(Mo-Re)。由于钨铼、钼铼合金有着优异的高温强度和高温塑性，为此基材制作的各种结构件，加热器，异型零件被广泛的应用于航天航空，原子能，超高温合金，半导体磁控溅射，高温热场等业领域。
铼溅射靶材 Rhenium (Re)
形状 | 圆形、片状、坩锅、颗粒、丝材 |
尺寸 | 根据要求定制 |
厚度 | 按要求定制 |
纯度 | ≥4N |
注：其它尺寸可根据客户要求制作。具体尺寸请联系销售。
金属铼（Rhenium, Re）
一、高纯稀有金属铼（Rhenium, Re）溅射靶材及其与钨、铼、钼等金属合金化的靶板材料，以其独特的物理特性和广泛的应用优势，在现代高科技领域中占据着举足轻重的地位。
PRECIOUS metaLS 稀贵金属材料、电子束蒸发颗粒 | |
Gold (Au) | Palladium (Pd) |
Silver (Ag) | Platinum (Pt) |
Gold Arsenic (AuAs) | Rhenium (Re) |
Gold Tin (AuSn) | Rhodium (Rh) |
Iridium (Ir) | Ruthenium (Ru) |
Osmium (Os) | |
专注研发与生产，铸就行业精品。所生产稀贵金属材料如下：
二、材料特性：
1、首先，从材料特性来看，高纯铼靶材的纯度可达到3N5至4N（即99.95%至99.99%）以上，甚至更高，确保了其在溅射镀膜过程中的纯净度和最终产品的卓越性能。铼的密度高达21.04g/cm³，在所有金属中****，这使得铼靶材在溅射时能够稳定地释放原子，形成致密且均匀的薄膜。尤为值得一提的是，铼的熔点在所有元素中排第三位，高达3186°C，沸点更是居首位，达到了5596°C，这种高熔点和沸点特性使得铼靶材在高温环境下依然能够保持稳定的性能，不易变形或熔化。
2、当铼与钨、钼等金属合金化后，形成的靶板材料不仅继承了铼的高熔点、高密度和稳定性，还通过合金化效应进一步提升了材料的综合性能。例如，钨和钼的加入可以增强合金的强度和耐磨性，而铼的添加则能显著改善合金的高温稳定性和抗氧化性。这种多元素协同作用的合金靶板材料，在航空航天、核工业、电子器件等高温、高要求的应用场景中展现出了卓越的性能。
三、行业应用；
高纯铼溅射靶材及其合金靶板材料具有显著的优势。在半导体行业中，铼靶材被广泛用于制备高性能的电子元件和集成电路，其高纯度和稳定性确保了电子元件的可靠性和长寿命。在航空航天领域，铼钨铼钼合金靶板材料因其优异的高温稳定性和高强度，被用于制造发动机部件、高温传感器等关键元件，为飞行器的安全和性能提供了有力保障。此外，在核工业中，铼靶材及其合金材料也因其良好的耐辐射性能而备受青睐，被用于核反应堆的结构材料和防护层。
****，高纯稀有金属铼溅射靶材及其与钨、铼、钼等金属合金化的靶板材料，以其独特的物理特性和广泛的应用优势，在高科技领域中发挥着越来越重要的作用。随着技术的不断进步和应用领域的不断拓展，这些材料将继续为提升产品质量、推动产业升级贡献重要力量。