半导体镀膜 器件光刻芯片技术 山东光刻芯片技术

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微纳光刻加工厂——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一,主要聚焦半导体产业发展的应用技术研究,兼顾重大技术应用的基础研究,立足于广东省经济社会发展的实际需要,从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究,以及行业应用技术开发。

光刻可能会出现显影不干净的异常,主要原因可能是显影时间不足、显影溶液使用周期过长,溶液溶解胶量较多、曝光时间不足。

光刻是平面型晶体管和集成电路生产中的一个主要工艺。是对半导体晶片表面的掩蔽物(如二氧化硅)进行开孔,以便进行杂质的定域扩散的一种加工技术。一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀、检测等工序。硅片清洗烘干方法:湿法清洗 去离子水冲洗 脱水烘焙(热板150~250C,1~2分钟,氮气保护)目的:

a、除去表面的污染物(颗粒、有机物、工艺残余、可动离子);

b、除去水蒸气,半导体光刻芯片技术,使基底表面由亲水性变为憎水性,增强表面的黏附性(对光刻胶或者是HMDS-〉六甲i基二硅胺烷)。

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常用的光刻胶主要是两种,正性光刻胶(itive photoresist)被曝光的部分会被显影剂清除,负性光刻胶(negative photoresist)未被曝光的部分会被显影剂清除。

接近式光刻机,光刻版与光刻胶有一个很小的缝隙,因为光刻版与衬底没有接触,缺陷大大减少,优点是避免晶圆片与光刻版直接接触,缺陷少,缺点是分辨率低,存在衍射效应。

光刻胶是一种有机化合物,它被紫外光曝光后,在显影溶液中的溶解度会发生变化。光刻胶是微电子技术中微细图形加工的关键材料之一。


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光刻技术成为一种精密的微细加工技术。

光刻层间对准,即套刻精度(Overlay),山东光刻芯片技术,保证图形与硅片上已经存在的图形之间的对准。曝光中较重要的两个参数是:曝光能量(Energy)和焦距(Focus)。如果能量和焦距调整不好,数字光刻芯片技术,就不能得到要求的分辨率和大小的图形。表现为图形的关键尺寸超出要求的范围。曝光方法:

a、接触式曝光(ContactPrinting)。掩膜板直接与光刻胶层接触。曝光出来的图形与掩膜板上的图形分辨率相当,设备简单。缺点:光刻胶污染掩膜板;掩膜板的磨损,寿命很低(只能使用5~25次);1970前使用,分辨率〉0.5μm。

b、接近式曝光(ProximityPrinting)。

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发布时间
2022-10-24 11:40
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